真空镀膜和光学镀膜的区别是什么？

一、概念上的差异

   1.真空镀膜是一种在高真空条件下加热金属或非金属材料，在电镀件(金属、半导体或绝缘体)表面蒸发浓缩形成薄膜的方法，如真空镀铝、真空镀铬等。

   2.光学镀膜是指在光学零件表面镀一层(或多层)金属(或介质)薄膜的过程，在光学零件表面涂覆的目的是减少或增加反射、光束分离、分色、滤波、极化等，常用的镀膜方法是真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。

二、原理的区别

   1.真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是一种以真空技术为基础，采用物理或化学方法，吸收电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产薄膜提供新的工艺。简单地说，是一种在真空中蒸发或溅射金属、合金或化合物的方法，使其凝固并沉积在涂覆物(称基板、基片或基体)上。

    2.光学干涉被较多应用于薄膜光学中，光学薄膜技术的常用方法是用真空溅射在玻璃衬底上涂覆薄膜，通常用来控制基片对入射光束的反射率和透射率，以满足不同的需要，为了消除光学部件表面的反射损耗，提高成像质量，对一种或多种透明介质膜进行了包覆，称为减反射膜或增透膜。

随着激光技术的发展，对薄膜的反射率和透光率提出了不同的要求，促进了多层高反射膜和宽带增透膜的发展，根据各种应用需要，采用高反射膜制备了偏振反射膜、彩色光谱膜、冷光膜和干涉滤光片，在光学部件表面涂覆后，光在膜层上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制薄膜的折射率和厚度，获得不同的强度分布，这是干涉涂层的基本原理。

三、方法和材料的区别

1.真空镀膜方法材料：

(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室。清空后，薄膜材料被加热到高温，使蒸汽达到13.3Pa左右，蒸汽分子飞到基片表面并凝结成薄膜。

(2)阴极溅射镀：将需要在阴极对面涂覆的基板，通过惰性气体(如氩)进入空室，使压力保持在1.33≤13.3Pa左右，然后将阴极与2000 V直流电源连接，然后激发辉光放电，正氩离子撞击阴极，使其发射原子，并将溅射原子沉积在衬底上形成薄膜。

(3)化学气相沉积：通过对选定的金属或有机化合物进行热分解而沉积薄膜的过程。

(4)离子镀：从本质上说，离子镀是真空蒸发和阴极溅射镀的有机结合，两者兼具技术特点。表6/9列出了各种镀膜方法的优缺点。

2.光学镀膜方法材料

主要研究结果如下：

(1)氟化镁：高纯度无色四面体粉末。用氟化镁制备的光学涂层能提高透光率，避免塌陷点。

(2)二氧化硅：无色透明晶体、高熔点、高硬度和良好的化学稳定性。高纯度、高质量的Si02涂层、良好的蒸发状态、无塌陷点。按使用要求可分为紫外线、红外线和可见光。

(3)氧化锆：白色重晶，折射率高，耐高温，化学性质稳定，纯度高，制备优质氧化锆涂层，无塌陷点。

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